国产90纳米光刻机有用吗,中国首台5纳米光刻机

国产90纳米光刻机有用吗,中国首台5纳米光刻机

▲中国光刻。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子,生产的光刻机在90nm阶段,处于光刻机技术的最后一档。就是说只要美国干预,中国将无法获得EUV光刻机。90年代末,光刻机的光源采用的是193纳米的氟化氩激光。中国每突破一极限,美国为代表的西方国家,即开始对中国出口相关产品,成为规律,谁不挣钱都着急,2015年刚说要将65纳的设备给我们,今年阿斯麦就宣布,7纳的光刻机对中国一视同仁,嘻嘻,谢谢您的仁慈,谁都能听出来,中国没有的话,实事上根本不可能,不少喷子纳闷极了,我们的进步,有这么快?,由不得你眨下眼睛。

5纳米芯片意味着什么?

前段时间,“芯片”问题因为光刻机的供应商着火又再一次进入大众的视野,尤其是杜宇7nm芯片的可望而不可得的情绪更是让人很无奈,说到纳米级芯片,可能还需要大家了解下芯片的知识。那么芯片到底是什么呢?其实芯片就是集成电路,或者叫微电路,就是装有集成电路的硅片,说得更直白一点,芯片就像人体的大脑和心脏,这么说就大家就能明白芯片的作用吧。

科研人员用来衡量一个芯片科技含量水平的标准就是纳米级,当前在世界范围内通行的是10纳米级别的芯片,当然具有最权威的光刻机制造厂商已经具有制造出7纳米级别的芯片。所以,5纳米芯片意味着什么呢?意味着全球最先进的制造厂商制造的芯片和它还有2纳米的差距。不过也不用悲观,现在很多国家已经开始着手研究5纳米级别的芯片,等个一年半载就应该能够面世。

中国能做3纳米的光刻机吗?

一、中国目前的技术在90nm,最先进的ASML也是5nm,3nm无人能造首先回答问题,那就是不能,目前中国量产的光刻机技术是90nm,90nm之后还有N个台阶,离3nm的差距,至少是10年起步。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子,生产的光刻机还在90nm阶段,处于光刻机技术的最后一档。如上图所示,中国的SMEE处于低端,也就是90nm,而日本canno也处于这一档,而Nikon处于7-28nm。

而技术最强的ASML目前的技术是5nm/7nm技术,也没有3nm技术,所以现在说3nm真的是太早太早了。二、光刻机的核心技术是什么,为何这么难?那么光刻机的核心技术是什么,为何这么难?其实从元件来看,核心元件是镜头,因为光刻机的原理是放大的单反,用光把电路图刻画在硅片上,一次又一次,一层又一层的刻画。

中国的光刻机现在达到多少纳米了?

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