国产90纳米光刻机有用吗,中国首台5纳米光刻机
▲中国光刻。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子，生产的光刻机在90nm阶段，处于光刻机技术的最后一档。就是说只要美国干预，中国将无法获得EUV光刻机。90年代末，光刻机的光源采用的是193纳米的氟化氩激光。中国每突破一极限，美国为代表的西方国家，即开始对中国出口相关产品，成为规律，谁不挣钱都着急，2015年刚说要将65纳的设备给我们，今年阿斯麦就宣布，7纳的光刻机对中国一视同仁，嘻嘻，谢谢您的仁慈，谁都能听出来，中国没有的话，实事上根本不可能，不少喷子纳闷极了，我们的进步，有这么快？，由不得你眨下眼睛。
5纳米芯片意味着什么？
前段时间，“芯片”问题因为光刻机的供应商着火又再一次进入大众的视野，尤其是杜宇7nm芯片的可望而不可得的情绪更是让人很无奈，说到纳米级芯片，可能还需要大家了解下芯片的知识。那么芯片到底是什么呢？其实芯片就是集成电路，或者叫微电路，就是装有集成电路的硅片，说得更直白一点，芯片就像人体的大脑和心脏，这么说就大家就能明白芯片的作用吧。
科研人员用来衡量一个芯片科技含量水平的标准就是纳米级，当前在世界范围内通行的是10纳米级别的芯片，当然具有最权威的光刻机制造厂商已经具有制造出7纳米级别的芯片。所以，5纳米芯片意味着什么呢？意味着全球最先进的制造厂商制造的芯片和它还有2纳米的差距。不过也不用悲观，现在很多国家已经开始着手研究5纳米级别的芯片，等个一年半载就应该能够面世。
中国能做3纳米的光刻机吗？
一、中国目前的技术在90nm，最先进的ASML也是5nm，3nm无人能造首先回答问题，那就是不能，目前中国量产的光刻机技术是90nm，90nm之后还有N个台阶，离3nm的差距，至少是10年起步。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子，生产的光刻机还在90nm阶段，处于光刻机技术的最后一档。如上图所示，中国的SMEE处于低端，也就是90nm，而日本canno也处于这一档，而Nikon处于7-28nm。
而技术最强的ASML目前的技术是5nm/7nm技术，也没有3nm技术，所以现在说3nm真的是太早太早了。二、光刻机的核心技术是什么，为何这么难？那么光刻机的核心技术是什么，为何这么难？其实从元件来看，核心元件是镜头，因为光刻机的原理是放大的单反，用光把电路图刻画在硅片上，一次又一次，一层又一层的刻画。
中国的光刻机现在达到多少纳米了？
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